TSMC frente a Intel: por qué evitó la máquina High-NA de 400 millones y cómo Japón hace viable la apuesta
Intel encendió la primera máquina EUV High-NA del mundo; TSMC se saltó el equipo de 400 millones. Llegar tarde a la litografía más nueva le costó a Intel una década perdida. ¿Repite TSMC el error? Su confianza se apoya en Japón: la pellicle EUV de Mitsui Chemicals y el cuasi monopolio de mask blanks de HOYA, Shin-Etsu y AGC (cerca del 90%).